三方管状高真空分子ポンプユニット ISO3666 分子ポンプ流量 600 l/S 到達圧力 ≤1.5×10⁻⁵Pa

三方管状高真空分子ポンプユニット ISO3666 分子ポンプ流量 600 l/S 到達圧力 ≤1.5×10⁻⁵Pa

製品紹介

VET-004は、真空工学と高温処理の中核設備として、従来の単一ステーションの制約を打破し、3方向並列設計を採用しています。各管状炉の直径はφ120mmで、独立して温度制御が可能です（室温～1200℃）。600L/S分子ポンプと9L/Sロータリーベーンポンプを搭載し、大気圧から10⁻⁵Paレベルまで、30分以内に急速真空を実現します。本装置は、真空度、温度、ガス流量など、複数のパラメータをリアルタイムで監視し、インテリジェントな連携システムを内蔵しています。真空度が閾値を下回ると、自動的に保護機構が作動し、高温環境下における材料反応の安定性と再現性を確保します。大学の研究室、企業の研究開発センター、精密製造生産ラインなどに最適です。

製品の特徴

3 方向並列処理: 3 方向チューブ炉を独立して制御し、異なる温度と真空度のプロセスの同時操作をサポートし、効率を 300% 向上させます。

超高真空性能：分子ポンプ＋ロータリーベーンポンプの複合排気、到達圧力≤1.5×10⁻⁵Pa、薄膜堆積、結晶成長などの厳しい真空要件を満たします。

正確な温度制御：各チューブ炉には PID インテリジェント温度コントローラーが装備されており、温度制御精度は ±1℃ で、加熱速度は 0 ～ 20℃/分の自由設定をサポートします。

モジュール設計: 分子ポンプとロータリーベーンポンプはメンテナンスのために分解することができ、チューブ炉のチューブは迅速な交換をサポートし、ダウンタイムとメンテナンスコストを削減します。

安全保護システム: 高温過負荷アラーム、真空漏れインターロックシャットダウン、炉シェルの火傷防止設計により、操作上の安全性を確保します。

マルチガスソース適応: 3 方向の空気入口インターフェイスが予約されており (アルゴン、窒素、水素などをサポート)、MFC 質量流量計と互換性があり、ガス流量を正確に制御します。

国際標準規格

ISO 3666:2015「真空技術 - 真空ゲージ - 性能パラメータおよび校正方法」: 真空センサーの精密校正は国際規格に準拠しており、圧力データの信頼性を確保します。

ASTM E2149-13「動的真空条件下での材料のガス放出速度の試験方法」：材料のガス放出速度検出機能をサポートし、航空宇宙材料の真空適合性試験要件を満たします。

IEC 61010-1:2010「測定、制御および実験室での使用のための電気機器の安全要件」: 電気システムは、過負荷保護および地絡検出の認証に合格しており、実験室の安全規制に準拠しています。

GB/T 16800-2012「真空技術 - 超高真空フランジ」：パイプラインインターフェースはCF35超高真空フランジを採用し、シール性能は10⁻⁹Pa・m³/sの漏れ率レベルに達します。

製品の使用

材料科学研究：カーボンナノチューブの成長、グラフェン膜の堆積、金属合金の真空焼鈍

半導体製造：ウェハレベルの真空乾燥、パッケージング前のLEDチップの脱ガス

新エネルギー分野：リチウム電池電極材料焼結、固体電池電解質真空合成

分析・試験：触媒活性評価（真空環境下でのガス吸着・脱着試験）

大学・研究機関：マルチステーション比較実験、高温真空環境シミュレーション教育

技術的パラメータ

テスト対象とテスト項目

テストオブジェクト

チューブ炉ライナーおよびシーリング部品

半導体ウェハ、太陽光発電用シリコンウェハ、セラミック基板

ナノ粉末材料（グラフェン酸化物、金属有機構造体MOFなど）

高温合金試料、超伝導材料試料

テスト項目

真空確立時間: 大気圧から10⁻³Pa/10⁻⁵Paまで排気するのに必要な時間

温度均一性：管状炉の軸方向温度分布（±5℃以内が適格）

材料の脱ガス速度：高温真空環境下における試料の単位面積あたりの脱ガス量

シール信頼性：CFフランジ接続時の漏れ率（≤1×10⁻⁹Pa・m³/s）

分子ポンプ効率：異なる真空範囲（低真空/高真空セクション）での排気速度安定性テスト