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化学蒸着装置(CVD)
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化学蒸着装置(CVD)

Th機能:

 

化学蒸着システムの機能は、基板上に薄膜を堆積し、材料特性を改善し、機能デバイスを製造し、表面改質を達成し、薄膜の厚さを正確に制御し、製品の品質を向上させ、研究開発を支援することです。プロセス制御性が高く、大規模生産が可能であり、場合によってはコストが低いという利点を備え、集積回路の製造などに使用される新材料です。

  • 認証 :

    Calibration Certificate(cost additional)
  • 価格 :

    Negotiable
  • 納期 :

    30 days
  • 支払い条件 :

    L/C, T/T
  • ブランド名 :

    HCTE
  • モデル番号 :

    HCTE-VCM-003

適用範囲:

 

半導体チップ産業、太陽光発電、LED、その他の産業における薄膜堆積。

 

 

製品の特徴:

特別に設計されたガス分布と流れ場、および反応圧力自動制御システム。蒸着の均一性と安定性を確保し、薄膜の欠陥が少なく界面が良好であるという活性層とパッシベーション層の要件を満たします。

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Polyester Powder Coating for industry or architectures
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